File:ASML headquarters Veldhoven.jpg

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摘要

描述ASML headquarters Veldhoven.jpg	Corporate headquarters of ASML (NASDAQ:ASMLD), a supplier of lithography systems for the semiconductor industry. The office building is 82 metres tall and located in Veldhoven, Netherlands.
日期	2008年5月22日
来源	自己的作品
作者	A ansems
授权 (二次使用本文件)	Public domain

物体位置	51° 24′ 16.2″ 北, 5° 25′ 01.24″ 东	在以下服务上查看本图像和附近其他图像： OpenStreetMap	51.404500; 5.417010

相机位置	51° 24′ 19.19″ 北, 5° 25′ 00.88″ 东	在以下服务上查看本图像和附近其他图像： OpenStreetMap	51.405330; 5.416910

许可协议

我，本作品著作权人，释出本作品至公有领域。这适用于全世界。
在一些国家这可能不合法；如果是这样的话，那么：
我无条件地授予任何人以任何目的使用本作品的权利，除非这些条件是法律规定所必需的。

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	日期/时间	缩⁠略⁠图	大小	用户	备注
当前	2023年2月10日 (五) 23:04		2,048 × 1,536（601 KB）	Castillogrande	lighter, less contrast
	2008年5月22日 (四) 19:57		2,048 × 1,536（1.26 MB）	A ansems	{{Information \|Description=Corporate headquarters of ASML (NASDAQ:ASMLD), a supplier of lithography systems for the semiconductor industry. The office building is 82 metres tall and located in Veldhoven, Netherlands. \|Source=self-made \|Date=May 22, 2008 \|

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荷蘭將進一步限制半導體技術出口

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- ASML Holding
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- ASML
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- Veldhoven
- ASML Holding
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- User:Sirapob Ing/sandbox
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- Netherlands set to further restrict semiconductor technology exports
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- ASML
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- ASML
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- ASML Holding
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- Q297879
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- ASML
zh.wikipedia.org上的用途
- 艾司摩爾

元数据

此文件含有额外信息，这些信息可能是创建或数字化该文件时使用的数码相机或扫描仪所添加的。如果文件已从其原始状态修改，某些详细信息可能无法完全反映修改后的文件。

相机制造商	SONY
相机型号	DSC-P32
曝光时间	1/250秒（0.004）
光圈值	f/4
感光度（ISO）	100
数据生成日期时间	2008年5月22日 (四) 19:40
镜头焦距	5毫米
方向	正常
水平分辨率	72 dpi
垂直分辨率	72 dpi
使用软件	Windows Photo Editor 10.0.10011.16384
文件修改日期时间	2023年2月10日 (五) 18:03
亮度（Y）和色度（C）位置	重叠
曝光程序	艺术程序（偏向景深）
Exif版本	2.2
数字化日期时间	2008年5月22日 (四) 19:40
每个色彩组分意义	Y Cb Cr 不存在
图像压缩模式	4
APEX曝光补偿	0
最大光圈	2.9375 APEX（f/2.77）
测光模式	多区
光源	未知
闪光灯	闪光灯未点亮
支持的Flashpix版本	1
色彩空间	sRGB
文件来源	数码相机
场景类型	直接拍摄的图像
自订图像处理	普通处理
曝光模式	自动曝光
白平衡	自动白平衡
场景拍摄类型	标准

File:ASML headquarters Veldhoven.jpg

摘要

许可协议

说明

此文件中描述的项目

办公大楼 Chinese (China)（已转写）

高层建筑物 中文（已转写）

创作作者 简体中文（已转写）

某些值没有维基数据项目

版权状态 简体中文（已转写）

受版权保护，并由版权所有者释出于公有领域 简体中文（已转写）

著作权持有者释出至公有领域 简体中文（已转写）

22 5 2008

视角坐标 简体中文（已转写）

51°24'19.19"N, 5°25'0.88"E

文件来源 简体中文（已转写）

上传者的原创作品 简体中文（已转写）

摄影器材 简体中文（已转写）

描述地坐标 中文（已转写）

51°24'16.2"N, 5°25'1.2"E

曝光时间 简体中文（已转写）

0.004 秒

焦距比数 简体中文（已转写）

4

焦距 简体中文（已转写）

5 毫米

ISO速度 简体中文（已转写）

100

媒体类型 简体中文（已转写）

image/jpeg

校验和 简体中文（已转写）

2071f3d191e085651f3e4bcde2e7f86229d7eb47

数据大小 简体中文（已转写）

614,942 字节

1,536 像素

2,048 像素

文件历史

文件用途

全域文件用途

元数据

办公大楼 ^{Chinese (China)（已转写）}

高层建筑物 ^{中文（已转写）}

创作作者 ^{简体中文（已转写）}

版权状态 ^{简体中文（已转写）}

受版权保护，并由版权所有者释出于公有领域 ^{简体中文（已转写）}

著作权持有者释出至公有领域 ^{简体中文（已转写）}

视角坐标 ^{简体中文（已转写）}

文件来源 ^{简体中文（已转写）}

上传者的原创作品 ^{简体中文（已转写）}

摄影器材 ^{简体中文（已转写）}

描述地坐标 ^{中文（已转写）}

曝光时间 ^{简体中文（已转写）}

焦距比数 ^{简体中文（已转写）}

焦距 ^{简体中文（已转写）}

ISO速度 ^{简体中文（已转写）}

媒体类型 ^{简体中文（已转写）}

校验和 ^{简体中文（已转写）}

数据大小 ^{简体中文（已转写）}