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File:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

原始文件 ‎（713 × 605像素，文件大小：80 KB，MIME类型：image/jpeg）

描述
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
日期
来源 Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
作者 Lawrence Livermore National Laboratory
授权
(二次使用本文件)
Public domain 此图像是美国能源部（或前身组织）的雇员于其公务中所作的作品。由于此作品由美国联邦政府所作，其处于公有领域。

请注意美国国家实验室使用不同授权条款而其中部分为自由条款。核实实验室的网站政策后才可使用此标签。

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当前2011年9月22日 (四) 18:192011年9月22日 (四) 18:19版本的缩略图713 × 605（80 KB）Bomazi{{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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取自“https://zh.wikinews.org/wiki/File:Extreme_ultraviolet_lithography_tool.jpg”